基替换过程,basis replacement procedure

1)basis replacement procedure
基替换过程

2)replacement process
替换过程
例句>>

3)succession[英][sək'seʃn][美][sək'sɛʃən]
演替过程
1.
superba population at different successional stages,the size structure,the spatial pattern of the popualtion and their dynamics were described.
本文采用“空间序列代替时间序列变化”的研究方法，在武夷山区对演替过程中木荷种群结构和空间分布格局进行了研究，并对其动态规律作了探讨。


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4)the process of displacement
驱替过程
例句>>

5)replacement process
替代过程
例句>>

6)displacing operation
顶替过程


补充资料：正规过程和倒逆过程
　　讨论完整晶体中声子-声子散射问题时,由于要求声子波矢为简约波矢（见布里渊区），所得到的总波矢守恒条件会相差一个倒易点阵矢量G)。例如对于三声子过程有下列条件
　　
　　
　　　 　， (1)
　　式中q1和q2是散射前的声子简约波矢, q3为散射后声子波矢，式(1)中G)的取值应保证q3也是简约波矢。这时会出现两种过程,其一是当q1+q2在简约区内时,可以取倒易点阵矢量G)＝0,式(1)则简化为总波矢守恒条件,称为正规过程或N过程。其二是当q1+q2超出简约区时,所取G)应保证q3仍落于简约区内,由于q3与q1+q2相差G),显然q3位于q1+q2的相反一侧，这时散射使声子传播方向发生了倒转，故称为倒逆过程或U过程。U过程总波矢不守恒,但总能量守恒,因为声子频率是倒易点阵的周期函数，而q3与q1+q2只相差一个倒易点阵矢量。N过程在低温长波声子的散射问题中起主要作用。当温度升高，简约区边界附近的声子有较多激发时，U过程变得十分显著,它对点阵热导有重要贡献。
　　
　　在能带电子与声子散射问题中存在着与式 (1)相仿的总波矢条件
　　k+G＝k┡±q，
　　
　　 　 (2)
　　式中k与k┡分别为散射前后电子的简约波矢,±号分别对应于吸收或发射q声子。类似的在热中子-声子散射以及晶体中一切波的相互作用过程中，总波矢变化都相差一个倒易点阵矢量G),因此也都有N与U过程之分。这是晶体和连续媒质不同之处，连续媒质对无穷小平移具有不变性，才能求得总波矢守恒，而晶体只具有对布喇菲点阵的平移不变性，因此总波矢守恒条件会相差一个倒易点阵矢量。
　　


说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。

基替换过程,basis replacement procedure